筑波大学開発 多層グラフェンの低温製造技術

2021/01/12 00:31 By Tech Manage

電池負極・配線・熱伝導シート・耐摩耗膜等開発のご提案

Background and Technology

 筑波大学 環境半導体・磁性体研究室所属の都甲薫准教授は、次世代のスマートデバイス開発に必要とされる極薄型のディスプレイ・プロセッサ・バッテリー・太陽光発電素子に向けた素材を開発している。

例えば、耐熱性プラスチック表面にゲルマニウム薄膜を実装する技術や、高い光電変換効率を持つⅢ-Ⅴ族半導体太陽電池の薄膜接合の製造技術である。

そうした中この度、多層グラフェンを低温で製造する技術を開発した。 


  • 基盤上に金属層と炭素層を積層し温度を加えることで起こる「層交換」の条件を確立
  • グラフェン膜は厚み100nm、層は数千。従来製造が困難であった、非常に厚い多層膜が得られる。
  • 電池用負極材や電子回路の配線など電気的用途、熱伝導シートや摺動部材の摩擦力制御など機械的用途を想定 
  • 製造温度は350℃。耐熱性プラスチックなど、フレキシブルな材料基板上にグラフェン膜を製造可能。

Expectations

 多層グラフェンを用いた事業・製品開発をお考えの企業様への技術提供や共同での技術研究・開発をご提案します。ご興味をお持ちでしたら、弊社から技術詳細情報の提供や、都甲先生とのご面談(オンライン可)のアレンジなど、貴社の検討をサポートいたします。

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